Quality is life, service is the tenet
薄膜材料制備廣泛用于:真空或氣氛燒結、基片鍍膜等要求加熱溫度較高的實驗環(huán)境使命責任。該設備技術成熟效果、質量可靠,溫場均勻合規意識,結構合理密度增加,法蘭以卡箍密封有效性,安裝拆卸簡便快捷,是各大材料實驗室的理想設備之一機遇與挑戰。
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查看詳情化學氣相沉積設備CVD1200C-II-SL 200D50-5Z 雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)滑軌爐著力增加、質子流量控制系統(tǒng)智能化、真空系統(tǒng)三部分組成。雙溫區(qū)滑軌爐可移動并可實現(xiàn)快速升降溫處理;PLC控制5路質子流量器建設,能夠精確控制系統(tǒng)的供氣;真空泵可實現(xiàn)對管式爐快速抽真空。CVD(化學氣象沉積系統(tǒng))常用于表面材料生長極致用戶體驗、沉積,是一款實驗室常用設備技術參數(shù)
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