合肥康帕因獨家研製｜高精度石英管封管設備-區域熔融純化系統｜智能粉體回轉爐自動進出料方案

薄膜材料制備廣泛用于:真空或氣氛燒結(jié)、基片鍍膜等要求加熱溫度較高的實驗環(huán)境尤為突出。該設備技術(shù)成熟規定、質(zhì)量可靠，溫場均勻空間載體，結(jié)構(gòu)合理責任，法蘭以卡箍密封，安裝拆卸簡便快捷保護好，是各大材料實驗室的理想設備之一組建。

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化學氣相沉積設備CVD1200C-II-SL 200D50-5Z 雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)滑軌爐聽得進、質(zhì)子流量控制系統(tǒng)新的力量、真空系統(tǒng)三部分組成。雙溫區(qū)滑軌爐可移動并可實現(xiàn)快速升降溫各項要求；PLC控制5路質(zhì)子流量器更高要求，能夠精確控制系統(tǒng)的供氣；真空泵可實現(xiàn)對管式爐快速抽真空新技術。CVD（化學氣象沉積系統(tǒng)）常用于表面材料生長共同學習、沉積，是一款實驗室常用設備技術(shù)參數(shù)