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PECVD

更新時間：  2025-01-14

產(chǎn)品型號：  

產(chǎn)品報價：  

所  在  地：  合肥市新站區(qū)穎河路22號

產(chǎn)品特點：  PECVD化學氣相沉積多通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng)一款多路質(zhì)量流量計控制系統(tǒng)便利性，其質(zhì)量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里建設項目，移動柜Z大可以承重1000Lbs統籌推進，所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時對外開放，可將設備置于移動柜上以節(jié)約空間技術創新。

（聯(lián)系我時，請說明是在化工儀器網(wǎng)上看到的信息資料，謝謝V泛應用。?/div>
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產(chǎn)品概述
　　PECVD化學氣相沉積設備質(zhì)量流量控制系統(tǒng)一款多路質(zhì)量流量計控制系統(tǒng)建立和完善，其質(zhì)量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里探索，移動柜Z大可以承重1000Lbs，所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時產業，可將設備置于移動柜上以節(jié)約空間滿意度。
 
　　工作溫度：5~45?C
 
　　zui大壓力:3x106 Pa
 
　　精度: ±1.5% FS
 
　　線性:±(0.5-1.5)%F.S
 
　　重復精度: ±0.2%F.S.
 
　　流量范圍:
 
　　一路:1~199 SCCM
 
　　二路:1~499 SCCM
 
　　PECVD注意：其他流量范圍的可定制，需額外費用
 
　　化學氣相沉積設備CVD1200C-II-SL200D50-5Z雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)滑軌爐可持續、質(zhì)子流量控制系統(tǒng)主要抓手、真空系統(tǒng)三部分組成。雙溫區(qū)滑軌爐可移動并可實現(xiàn)快速升降溫構建；PLC控制5路質(zhì)子流量器創新科技，能夠精確控制系統(tǒng)的供氣；真空泵可實現(xiàn)對管式爐快速抽真空覆蓋。CVD(化學氣象沉積系統(tǒng))常用于表面材料生長異常狀況、沉積，是一款實驗室常用設備技術參數(shù)
 

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