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三溫區(qū)真空氣氛回轉(zhuǎn)爐CVD系統(tǒng)報(bào)價 是集三溫區(qū)真空回轉(zhuǎn)爐、三路質(zhì)量流量計(jì)系統(tǒng)及低真空機(jī)組而成一種動態(tài)狀態(tài)下的化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)研究進展。三溫區(qū)開啟式真空回轉(zhuǎn)管式爐采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)無障礙，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型快速融入。

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三溫區(qū)真空氣氛回轉(zhuǎn)爐CVD系統(tǒng) 是集三溫區(qū)真空回轉(zhuǎn)爐重要作用、三路質(zhì)量流量計(jì)系統(tǒng)及低真空機(jī)組而成一種動態(tài)狀態(tài)下的化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)。三溫區(qū)開啟式真空回轉(zhuǎn)管式爐采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)最為顯著，爐體表面溫度≤60℃尤為突出，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。

（含預(yù)熱器）雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng) 雙溫區(qū)滑軌爐可移動并可實(shí)現(xiàn)快速升降溫環境；PLC控制5路質(zhì)子流量器空間載體，能夠精確控制系統(tǒng)的供氣；真空泵可實(shí)現(xiàn)對管式爐快速抽真空相對簡便。CVD（化學(xué)氣象沉積系統(tǒng)）常用于表面材料生長重要組成部分、沉積，是一款實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備