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化學(xué)氣相沉積設(shè)備的介紹
來源:技術(shù)文章    更新時間:2023-02-15    瀏覽:2002次
  化學(xué)氣相沉積設(shè)備的介紹:
 
  采用雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)滑軌爐生動、質(zhì)子流量控制系統(tǒng)主動性、真空系統(tǒng)三部分組成成效與經驗。雙溫區(qū)滑軌爐可移動并可實現(xiàn)快速升降溫同期;PLC控制5路質(zhì)子流量器建議,能夠精確控制系統(tǒng)的供氣品率;真空泵可實現(xiàn)對管式爐快速抽真空。
 
  化學(xué)氣相沉積設(shè)備的結(jié)構(gòu):
 
  該設(shè)備采用雙層殼體并帶有風(fēng)冷系統(tǒng)不斷發展,使其爐體表面溫度都小于55℃積極影響,爐底安裝一對滑軌,可手動滑動不斷進步,以便滿足特殊工藝的快速升降溫的求工藝技術。 化學(xué)氣相沉積設(shè)備兩個加熱區(qū)的長度都是200mm分別由獨立的溫控系統(tǒng)控制效率。爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa,當(dāng)爐體溫度高于1000℃時近年來,爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài)講道理,爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當(dāng),保持在常壓狀態(tài)進(jìn)入爐管的氣體流量需小于200SCCM技術先進,以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊石英管的長時間使用溫度<1100℃更多的合作機會。對于樣品加熱的實驗,不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進(jìn)氣閥使用認為。若需要關(guān)閉氣閥對樣品加熱服務好,則需時刻關(guān)注壓力表的示數(shù),若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa反應能力,必須立刻打開泄氣閥共謀發展,以防意外發(fā)生(如爐管破裂,法蘭飛出等)結構重塑。
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